两位全球科技行业头部企业的勋马掌舵人先后给出的相似判断 ，中国本土企业就会爆发出极强的惊人大规模量产能力，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的欧美相关问题 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，马斯克也提到 ，国自当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机，研光
早前举办的刻机All-In科技峰会上，黄仁勋给出的啥时斯克判断是，
黄仁勋还补充提到 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。会比绝大多数海外行业从业者预估得更快，从整体表现来看完成度非常出色 ，把当前的算力缺口完全补齐 。
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，
他进一步解释 ，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。
给出了一个粗略的预判，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，大概两到三年时间内 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，靠单位算力输出的实际性能，补齐当前阶段的算力供给缺口 。